2024-03-29T12:19:23Zhttps://eprints.lib.hokudai.ac.jp/dspace-oai/requestoai:eprints.lib.hokudai.ac.jp:2115/375442019-05-14T08:58:35Zhdl_2115_37391hdl_2115_37319hdl_2115_3540950HzプラズマCVD法による高分子材料上へのシリコン酸化膜生成Deposition of Silicon Oxide Film on Polymer Substrade Using 50Hz Plasma CVD Method下妻, 光夫石川, 基博田頭, 博昭492.9北海道大学医療技術短期大学部Departmental Bulletin Paperapplication/pdfhttp://hdl.handle.net/2115/37544https://eprints.lib.hokudai.ac.jp/dspace/bitstream/2115/37544/1/5_27-34.pdf0915-2083AN10054499北海道大学医療技術短期大学部紀要527331992-12jpnpublisher