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Electrochemical Formation of Size-Controlled InP Nanostructures Using Anodic and Cathodic Reactions

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タイトル: Electrochemical Formation of Size-Controlled InP Nanostructures Using Anodic and Cathodic Reactions
著者: Sato, Taketomo 著作を一覧する
Fujino, Toshiyuki 著作を一覧する
Hashizume, Tamotsu 著作を一覧する
キーワード: nanostructured materials
dissociation
indium compounds
III-V semiconductors
etching
crystal orientation
electrodeposition
semiconductor growth
発行日: 2007年
出版者: The Electrochemical Society
誌名: Electrochemical and Solid-State Letters
巻: 10
号: 5
開始ページ: H153
終了ページ: H155
出版社 DOI: 10.1149/1.2713662
抄録: A two-step electrochemical process using anodic and cathodic reactions was developed to form size-controlled nanostructures on InP(001) substrates. After anodic formation of a nanopore array, the cathodic decomposition process was applied to reduce the thickness of InP nanowalls. The etching rate of the nanowalls was extremely small and strongly dependent on the cathodic bias and crystal orientations of the wall surface. Wall thickness could be controlled in the range of 10–30 nm by changing the cathodic bias and processing time.
Relation (URI): http://www.electrochem.org/
資料タイプ: article
URI: http://hdl.handle.net/2115/20209
出現コレクション:雑誌発表論文等 (Peer-reviewed Journal Articles, etc)

提供者: 佐藤 威友

 

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