ゼオライト触媒を用いたn -ヘキサン接触分解の速度解析


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Please use this identifier to cite or link to this item:http://hdl.handle.net/2115/70858

Title:	ゼオライト触媒を用いたn -ヘキサン接触分解の速度解析
Authors:	中坂, 佑太 Browse this author
	岡村, 拓哉 Browse this author
	今野, 大輝 Browse this author
	川原, 貴仁 Browse this author
	多湖, 輝興 Browse this author
	増田, 隆夫 Browse this author →KAKEN DB
Keywords:	ゼオライト触媒
Issue Date:	2011
Publisher:	石油学会
Journal Title:	石油学会年会・秋季大会講演要旨集
Volume:	2011
Start Page:	39
End Page:	40
Publisher DOI:	10.11523/sekiyu.2011f.0.16.0
Abstract:	MFI型、BEA型ゼオライト触媒を用いたn -ヘキサン接触分解の反応速度解析を550～650℃の温度領域において行った。ゼオライト種に依らず反応速度はヘキサン濃度に比例し、反応速度定数の活性化エネルギーはゼオライトのトポロジーによって異なることがわかった。また、反応速度定数とゼオライト細孔内におけるn -ヘキサンの拡散係数から触媒有効係数について検討を行った。
Description:	第60回研究発表会セッションID: A10　[受賞講演-学会賞]
Type:	article
URI:	http://hdl.handle.net/2115/70858
Appears in Collections:	工学院・工学研究院 (Graduate School of Engineering / Faculty of Engineering) > 雑誌発表論文等 (Peer-reviewed Journal Articles, etc)

Submitter: 増田隆夫

OAI-PMH ( junii2 , jpcoar_1.0 )

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