No.69 (1973-11-15 issued)
| A Simulation Technique of Runoff at Multistations | |
| Hoshi, Kiyoshi;Yamaoka, Isao | 1-10 |
| 一様せん断流の中におかれた円柱の乱流後流 | |
| 田村, 尚敬;木谷, 勝;有江, 幹男 | 11-17 |
| 温水による融雪方法に関する研究 | |
| 伊藤, 献一;山根, 清隆;深沢, 正一 | 19-28 |
| EGD発電に関する実験的研究 | |
| 矢野, 利明;伊藤, 献一;深沢, 正一 | 29-38 |
| 数値的逆ラプラス変換によるアーラン模型の過渡解について | |
| 二階堂, 正直;加地, 郁夫 | 39-49 |
| 一様化パラメータαi=0の場合の柱状ピンチプラズマの長波長近似による安定性解析 | |
| 本間, 利久;鬼頭, 正史;加地, 郁夫 | 51-59 |
| 混成木集合の一生成法 | |
| 小川, 恭孝;仙石, 正和;松本, 正 | 61-74 |
| 混成k木集合，混成k¯木集合とその性質（II） | |
| 仙石, 正和;黒部, 貞一;小川, 吉彦;松本, 正 | 75-86 |
| 薄型空胴スロットアンテナの帯域幅について | |
| 中岡, 快二郎;伊藤, 精彦;松本, 正 | 87-94 |
| 誘電体とフェライトを部分的に含む軸方向スロットを切った導波管の漏洩波および表面波の伝搬定数 | |
| 伊藤, 精彦;大木, 一夫;宮岸, 修;松本, 正 | 95-105 |
| 高速化C-MOSプッシュプルメモリ | |
| 武智, 真;黒部, 貞一;小川, 吉彦 | 107-115 |
| 計算機による音波ホログラムからの像再生 | |
| 青木, 由直;鈴木, 洋一 | 117-123 |
| 任意サンプル数のデータによる二次元高速フーリェ変換法（第2報） : そのプログラミング | |
| 青木, 由直 | 125-135 |
| 氷単結晶中の転位によるX線回折トポグラフ上の像のコントラスト | |
| 小黒, 貢 | 137-146 |
| 1次元こまによる低エネルギー中性子散乱とMathieu関数 | |
| 井上, 和彦 | 147-158 |
| 中性子散乱によるNH4I内アンモニウムイオンの内部回転の研究 | |
| 井上, 和彦 | 159-166 |
| 隧道内を流下する流れの水温変化（第2報） : 水温日変化におよぼす乱流の影響 | |
| 八鍬, 功;大谷, 守正 | 167-176 |
| 狭間隔浮遊層反応装置の基礎的研究とその応用（第2報） : 円筒型浮遊層内の物質移動 | |
| 藤川, 昌久;阿野, 誠哉;久郷, 昌夫 | 177-189 |
| 細孔内溶質供給源からの物質移動 : 溶媒中における界面に平行な方向の溶質拡がりの移動に与える効果について | |
| 柴田, 俊春;宿谷, 正夫;久郷, 昌夫 | 191-204 |
| Pressure Sintering of Beryllium Oxide | |
| Kodaira, Kohei | 205-211 |
| MgAl2O4生成反応に及ぼす水蒸気の影響 | |
| 島田, 志郎;古市, 隆三郎;石井, 忠雄 | 213-220 |
| Modification of Manganese Dioxide Catalyst Owing to the Change in Gas Composition | |
| Kobayashi, Masayoshi;Kobayashi, Haruo | 221-225 |
| Discontinuous Change of the Surface of Natural Manganese Dioxide Catalyst | |
| Kobayashi, Masayoshi;Hatano, Masakatsu;Kobayashi, Haruo | 227-230 |
| 担体付金属触媒によるチオフェンの水素化分解に関する研究 | |
| 杉岡, 正敏;青村, 和夫 | 231-239 |
| α・β不飽和アルデヒド化合物の選択的水素化反応（第2報） : 銅・カドミウム触媒によるクロトンアルデヒドの選択的水素化反応 | |
| 杉岡, 正敏;青村, 和夫 | 241-248 |