北海道大学工学部研究報告 = Bulletin of the Faculty of Engineering, Hokkaido University;No.141

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高融点金属ゲートを用いたセルフアライン形InP MISFETの製作プロセスの検討

田中, 利広;石井, 敦司;萩田, 晃一;大野, 英男;長谷川, 英機

Permalink : http://hdl.handle.net/2115/42115

Abstract


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