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ファイル	フォーマット	サイズ	閲覧回数	説明
2_P74-78	pdf	2.01 MB	2,219

論文情報

ファイル出力 EndNote Basic出力 Mendeley出力

アクセス権	open access
URI	https://hdl.handle.net/2115/24313
タイトル	STMによるSi表面へのAlCl3吸着過程の観察と反応表面での原子・分子操作
著者	植杉, 克弘 ; 滝口, 隆晴 ; 吉村, 雅満 ; 八百, 隆文
e-Rad_Researcher 70261352 著者名 植杉, 克弘
著者名 滝口, 隆晴
著者名 吉村, 雅満
著者名 八百, 隆文
言語	日本語
発行日	1995-01
出版者	北海道大学電子科学研究所
	Research Institute for Electronic Science Hokkaido University
収録物名	電子科学研究
巻(号)	2
ページ	74-78
資源タイプ	紀要論文
出版タイプ	Version of Record
PISSN	13402455
NCID	AN10431254

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