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ファイル	フォーマット	サイズ	閲覧回数	説明
1_73-84	pdf	609 KB	6,236

論文情報

ファイル出力 EndNote Basic出力 Mendeley出力

アクセス権	open access
URI	https://hdl.handle.net/2115/37493
タイトル	室温・低周波 （50Hz） プラズマCVD法によるアモルファスカーボン膜の作成と評価
	Characteristics of Amorphous Carbon Thin Film by Room Temperature Low Frequancy (50Hz) Plasma CVD
著者	e-Rad_Researcher 70041960 著者名 下妻, 光夫 Shimozuma, Mitsuo
	e-Rad_Researcher 10001174 著者名 田頭, 博昭 Tagashira, Hiroaki
言語	日本語
発行日	1988-10
出版者	北海道大学医療技術短期大学部
収録物名	北海道大学医療技術短期大学部紀要
巻(号)	1
ページ	73-83
資源タイプ	紀要論文
出版タイプ	Version of Record
PISSN	0915-2083
NCID	AN10054499

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