最近のエリプソ・インタフェロメトリの研究 : 薄膜の膜厚および光学定数分布の新しい測定法

三島, 瑛人

北海道大學工學部研究報告, 1983, 112, 47-55

Permalink : https://hdl.handle.net/2115/41775

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112_47-56	pdf	1.31 MB	2,395

アクセス権	open access
URI	https://hdl.handle.net/2115/41775
タイトル	最近のエリプソ・インタフェロメトリの研究 : 薄膜の膜厚および光学定数分布の新しい測定法
タイトル	Recent Trends of Studies on Ellipso-Interferometry : A New Techique for the Determination of Two Dimensional Distributions of Thickness and Optical Constants of Thin Films
著者	著者名三島, 瑛人 Mishima, Teruhito
言語	日本語
発行日	1983-01-31
出版者	北海道大学
出版者	Hokkaido University
収録物名	北海道大學工學部研究報告
収録物名	Bulletin of the Faculty of Engineering, Hokkaido University
巻(号)	112
ページ	47-55
資源タイプ	紀要論文
出版タイプ	Version of Record
PISSN	0385-602X
NCID	AN00230223