イオンおよび電子線照射によるニッケル/チタン薄膜表面の改質

大貫, 惣明; 三好, 隆宏; 高橋, 平七郎他

北海道大學工學部研究報告, 1986, 132, 173-183

Permalink : https://hdl.handle.net/2115/42003

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アクセス権	open access
URI	https://hdl.handle.net/2115/42003
タイトル	イオンおよび電子線照射によるニッケル/チタン薄膜表面の改質
タイトル	Surface Modification of Nickel/Titanium Thin Film by Means of Ion and Electron Irradiation
著者	大貫, 惣明 ; 三好, 隆宏 ; 高橋, 平七郎 ; 望月, 進 ; 佐藤, 義一 ; 竹山, 太郎
著者名大貫, 惣明 Ohnuki, Soumei
著者名三好, 隆宏 Miyoshi, Takahiro
著者名高橋, 平七郎 Takahashi, Heishichiro
著者名望月, 進 Mochizuki, Susumu
著者名佐藤, 義一 Sato, Yoshikazu
著者名竹山, 太郎 Takeyama, Taro
言語	日本語
発行日	1986-07-31
出版者	北海道大学
出版者	Hokkaido University
収録物名	北海道大學工學部研究報告
収録物名	Bulletin of the Faculty of Engineering, Hokkaido University
巻(号)	132
ページ	173-183
資源タイプ	紀要論文
出版タイプ	Version of Record
PISSN	0385-602X
NCID	AN00230223