Model for Deposition of Thin Films in Plasma CVD
Hino, Tomoaki; Fujita, Ichiro; Yamashina, Toshiro et al.
北海道大學工學部研究報告, 1993, 166, 45-50
Permalink : https://hdl.handle.net/2115/42388
このアイテムのアクセス数:1,174件（2026-05-10 05:50 集計）
閲覧可能ファイル
| ファイル |
フォーマット |
サイズ |
閲覧回数 |
説明 |
|
166_45-50
|
pdf
|
354 KB |
1,032
|
|
論文情報
ファイル出力
EndNote Basic出力
Mendeley出力
| アクセス権 |
|
| URI |
|
| タイトル |
|
| 著者 |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
| 言語 |
|
| 発行日 |
|
| 出版者 |
|
|
|
| 収録物名 |
|
|
|
| 巻(号) |
|
| ページ |
|
| 資源タイプ |
|
| 出版タイプ |
|
| PISSN |
|
| NCID |
|
