プラズマプロセスによるSiの表面窒化

原田, 誠; 広畑, 優子; 藤田, 一郎他

北海道大學工學部研究報告, 1996, 178, 25-33

Permalink : https://hdl.handle.net/2115/42477

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178_25-34	pdf	482 KB	7,520

アクセス権	open access
URI	https://hdl.handle.net/2115/42477
タイトル	プラズマプロセスによるSiの表面窒化
タイトル	Surface Nitrization of Si by Plasma Processing
著者	原田, 誠 ; 広畑, 優子 ; 藤田, 一郎 ; 日野, 友明 ; 山科, 俊郎
著者名原田, 誠 Harada, Makoto
e-Rad_Researcher 00189896 著者名広畑, 優子 Hirohata, Yuko
e-Rad_Researcher 80238568 著者名藤田, 一郎 Fujita, Ichiro
e-Rad_Researcher 30109491 著者名日野, 友明 Hino, Tomoaki
e-Rad_Researcher 40001193 著者名山科, 俊郎 Yamashina, Toshiro
言語	日本語
発行日	1996-10-15
出版者	北海道大学工学部
出版者	Faculty of Engineering, Hokkaido University
収録物名	北海道大學工學部研究報告
収録物名	Bulletin of the Faculty of Engineering, Hokkaido University
巻(号)	178
ページ	25-33
資源タイプ	紀要論文
出版タイプ	Version of Record
PISSN	0385-602X
NCID	AN00230223