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ファイル	フォーマット	サイズ	閲覧回数	説明
Takafumi_Uchida	pdf	14.7 MB	994

論文情報

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アクセス権	open access
DOI	https://doi.org/10.14943/doctoral.k12626
URI	https://hdl.handle.net/2115/65485
タイトル	パターン依存酸化法と再酸化で作製したシリコンマルチ結合量子ドットに関する研究
著者	著者名 内田, 貴史
言語	日本語
発行日	2017-03-23
出版者	Hokkaido University
ページ数	97p
学位授与機関	識別子 10101 機関名 北海道大学 Hokkaido University
学位授与年月日	2017-03-23
学位授与番号	甲第12626号
学位名	博士(工学)
学位の審査委員	(主査) 教授 葛西 誠也, 教授 富田 章久, 准教授 有田 正志
学位審査の研究科等	情報科学研究科（情報エレクトロニクス専攻）
資源タイプ	博士論文
出版タイプ	Version of Record
関連情報 (isReferencedBy)	HDL https://hdl.handle.net/2115/65486

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