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ファイル	フォーマット	サイズ	閲覧回数	説明
5_27-34	pdf	504 KB	2,704

論文情報

ファイル出力 EndNote Basic出力 Mendeley出力

アクセス権	open access
URI	https://hdl.handle.net/2115/37544
タイトル	50HzプラズマCVD法による高分子材料上へのシリコン酸化膜生成
	Deposition of Silicon Oxide Film on Polymer Substrade Using 50Hz Plasma CVD Method
著者	下妻, 光夫 ; 石川, 基博 ; 田頭, 博昭
e-Rad_Researcher 70041960 著者名 下妻, 光夫 Shimozuma, Mitsuo
著者名 石川, 基博 Ishikawa, Motohiro
e-Rad_Researcher 10001174 著者名 田頭, 博昭 Tagashira, Hiroaki
言語	日本語
発行日	1992-12
出版者	北海道大学医療技術短期大学部
収録物名	北海道大学医療技術短期大学部紀要
巻(号)	5
ページ	27-33
資源タイプ	紀要論文
出版タイプ	Version of Record
PISSN	0915-2083
NCID	AN10054499

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