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ファイル	フォーマット	サイズ	閲覧回数	説明
8_173-182	pdf	509 KB	3,724

論文情報

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アクセス権	open access
URI	https://hdl.handle.net/2115/37585
タイトル	DCプラズマCVD法による3次元基板上へのTiN膜生成 : アルゼンチン共和国へのプラズマプロセシング技術協力
	Deposition of TiN Film on the Three-Dimensional Substrate Using DC Plasma CVD Method : Technical Cooperation for Plasma Processing of Industrial Materials in the Argentine Republic
著者	下妻, 光夫 ; Lasorsa, Carlos ; Rodrigo, Adolfo
e-Rad_Researcher 70041960 著者名 下妻, 光夫 Shimozuma, Mitsuo
著者名 Lasorsa, Carlos
著者名 Rodrigo, Adolfo
言語	日本語
発行日	1995-12
出版者	北海道大学医療技術短期大学部
収録物名	北海道大学医療技術短期大学部紀要
巻(号)	8
ページ	173-182
資源タイプ	紀要論文
出版タイプ	Version of Record
PISSN	0915-2083
NCID	AN10054499

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