容量過渡解析によるAl2O3/native oxide/InP MIS構造の評価

増田, 宏; 何, 力; 長谷川, 英機他

北海道大學工學部研究報告, 1986, 132, 89-99

Permalink : https://hdl.handle.net/2115/41991

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132_89-100	pdf	748 KB	2,124

アクセス権	open access
URI	https://hdl.handle.net/2115/41991
タイトル	容量過渡解析によるAl2O3/native oxide/InP MIS構造の評価
タイトル	Characterization of Interface Properties of Al2O3/native oxide/InP MIS Structure by Capacitance Transient Analysis
著者	増田, 宏 ; 何, 力 ; 長谷川, 英機 ; 沢田, 孝幸 ; 大野, 英男
著者名増田, 宏 Masuda, Hiroshi
著者名何, 力 He, Li
著者名長谷川, 英機 Hasegawa, Hideki
著者名沢田, 孝幸 Sawada, Takayuki
著者名大野, 英男 Ohno, Hideo
言語	日本語
発行日	1986-07-31
出版者	北海道大学
出版者	Hokkaido University
収録物名	北海道大學工學部研究報告
収録物名	Bulletin of the Faculty of Engineering, Hokkaido University
巻(号)	132
ページ	89-99
資源タイプ	紀要論文
出版タイプ	Version of Record
PISSN	0385-602X
NCID	AN00230223