HUSCAP logo Hokkaido Univ. logo

Hokkaido University Collection of Scholarly and Academic Papers >
触媒科学研究所  >
JOURNAL OF THE RESEARCH INSTITUTE FOR CATALYSIS HOKKAIDO UNIVERSITY >
Vol. 26, No. 3  >

ELECTRICAL RESISTANCE OF THIN METALLIC FILMS:DIRECT SCATTERING OF CONDUCTION ELECTRONS BY ADSORBED ATOMS

フルテキスト
26(3)_P107-130.pdf931.65 kBPDF見る/開く
この文献へのリンクには次のURLを使用してください:http://hdl.handle.net/2115/25048

タイトル: ELECTRICAL RESISTANCE OF THIN METALLIC FILMS:DIRECT SCATTERING OF CONDUCTION ELECTRONS BY ADSORBED ATOMS
著者: WATANABE, Masao 著作を一覧する
発行日: 1979年 2月
出版者: THE RESEARCH INSTITUTE FOR CATALYSIS HOKKAIDO UNIVERSITY
誌名: JOURNAL OF THE RESEARCH INSTITUTE FOR CATALYSIS HOKKAIDO UNIVERSITY
巻: 26
号: 3
開始ページ: 107
終了ページ: 130
資料タイプ: bulletin
URI: http://hdl.handle.net/2115/25048
出現コレクション:Vol. 26, No. 3 (1978)

 

本サイトに関するご意見・お問い合わせは repo at lib.hokudai.ac.jp へお願いします。 - 北海道大学