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室温・低周波 (50Hz) プラズマCVD法によるアモルファスカーボン膜の作成と評価

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Please use this identifier to cite or link to this item:http://hdl.handle.net/2115/37493

Title: 室温・低周波 (50Hz) プラズマCVD法によるアモルファスカーボン膜の作成と評価
Other Titles: Characteristics of Amorphous Carbon Thin Film by Room Temperature Low Frequancy (50Hz) Plasma CVD
Authors: 下妻, 光夫1 Browse this author →KAKEN DB
田頭, 博昭2 Browse this author →KAKEN DB
Authors(alt): Shimozuma, Mitsuo1
Tagashira, Hiroaki2
Issue Date: Oct-1988
Publisher: 北海道大学医療技術短期大学部
Journal Title: 北海道大学医療技術短期大学部紀要
Volume: 1
Start Page: 73
End Page: 83
Type: bulletin (article)
URI: http://hdl.handle.net/2115/37493
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