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No.112 >

最近のエリプソ・インタフェロメトリの研究 : 薄膜の膜厚および光学定数分布の新しい測定法

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タイトル: 最近のエリプソ・インタフェロメトリの研究 : 薄膜の膜厚および光学定数分布の新しい測定法
その他のタイトル: Recent Trends of Studies on Ellipso-Interferometry : A New Techique for the Determination of Two Dimensional Distributions of Thickness and Optical Constants of Thin Films
著者: 三島, 瑛人 著作を一覧する
発行日: 1983年 1月31日
出版者: 北海道大学 = Hokkaido University
誌名: 北海道大學工學部研究報告 = Bulletin of the Faculty of Engineering, Hokkaido University
巻: 112
開始ページ: 47
終了ページ: 55
資料タイプ: bulletin (article)
URI: http://hdl.handle.net/2115/41775
出現コレクション:No.112

 

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