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Metal induced gap states at alkali halide/metal interface

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タイトル: Metal induced gap states at alkali halide/metal interface
著者: Kiguchi, Manabu 著作を一覧する
Yoshikawa, Genki 著作を一覧する
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Saiki, Koichiro 著作を一覧する
キーワード: Metal–insulator interfaces
Near-edge extended X-ray absorption fine structure
Alkali halides
発行日: 2004年10月15日
出版者: Elsevier B.V.
誌名: Applied Surface Science
巻: 237
号: 1-4
開始ページ: 495
終了ページ: 498
出版社 DOI: 10.1016/j.apsusc.2004.06.127
抄録: The electronic state of a KCl/Cu(0 0 1) interface was investigated using the Cl K-edge near-edge X-ray absorption fine structure (NEXAFS). A pre-peak observed on the bulk edge onset of thin KCl films has a similar feature to the peak at a LiCl/Cu(0 0 1) interface, which originates from the metal induced gap state (MIGS). The present result indicates that the MIGS is formed universally at alkali halide/metal interfaces. The decay length of MIGS to an insulator differs from each other, mainly due to the difference in the band gap energy of alkali halide.
Relation (URI):
資料タイプ: article (author version)
出現コレクション:雑誌発表論文等 (Peer-reviewed Journal Articles, etc)

提供者: 木口 学


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