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50HzプラズマCVD法による高分子材料上へのシリコン酸化膜生成

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Please use this identifier to cite or link to this item:http://hdl.handle.net/2115/37544

Title: 50HzプラズマCVD法による高分子材料上へのシリコン酸化膜生成
Other Titles: Deposition of Silicon Oxide Film on Polymer Substrade Using 50Hz Plasma CVD Method
Authors: 下妻, 光夫1 Browse this author →KAKEN DB
石川, 基博2 Browse this author
田頭, 博昭3 Browse this author →KAKEN DB
Authors(alt): Shimozuma, Mitsuo1
Ishikawa, Motohiro2
Tagashira, Hiroaki3
Issue Date: Dec-1992
Publisher: 北海道大学医療技術短期大学部
Journal Title: 北海道大学医療技術短期大学部紀要
Volume: 5
Start Page: 27
End Page: 33
Type: bulletin (article)
URI: http://hdl.handle.net/2115/37544
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