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DCプラズマCVD法による3次元基板上へのTiN膜生成 : アルゼンチン共和国へのプラズマプロセシング技術協力

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Please use this identifier to cite or link to this item:http://hdl.handle.net/2115/37585

Title: DCプラズマCVD法による3次元基板上へのTiN膜生成 : アルゼンチン共和国へのプラズマプロセシング技術協力
Other Titles: Deposition of TiN Film on the Three-Dimensional Substrate Using DC Plasma CVD Method : Technical Cooperation for Plasma Processing of Industrial Materials in the Argentine Republic
Authors: 下妻, 光夫1 Browse this author →KAKEN DB
Lasorsa, Carlos Browse this author
Rodrigo, Adolfo Browse this author
Authors(alt): Shimozuma, Mitsuo1
Issue Date: Dec-1995
Publisher: 北海道大学医療技術短期大学部
Journal Title: 北海道大学医療技術短期大学部紀要
Volume: 8
Start Page: 173
End Page: 182
Type: bulletin (article)
URI: http://hdl.handle.net/2115/37585
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