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超高圧電子顕微鏡による照射場格子揺らぎ解析

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Kenbikyo 40(1) 59.pdf1.67 MBPDFView/Open
Please use this identifier to cite or link to this item:http://hdl.handle.net/2115/77011

Title: 超高圧電子顕微鏡による照射場格子揺らぎ解析
Other Titles: HVEM study of radiation-induced structural fluctuation
Authors: 渡辺, 精一1 Browse this author →KAKEN DB
Authors(alt): Watanabe, Seiichi1
Keywords: 照射効果
その場観察
超高圧電子顕微鏡
金属ガラス
構造揺らぎ
HVEM
Issue Date: 31-Mar-2005
Publisher: 日本顕微鏡学会
Journal Title: 顕微鏡
Volume: 40
Issue: 1
Start Page: 59
End Page: 62
Publisher DOI: 10.11410/kenbikyo2004.40.59
Abstract: 現在、ナノ材料研究は隆盛を極めているが、一般的にナノメートル程度の空間領域を扱う際、揺らぎ効果がキーファクターとなる場合があるので注意を要する。これは系サイズが小さくなると統計揺らぎ効果により、熱振動や場に特有な局所揺動効果が顕在化してくることに起因する。たとえマクロスコーピックでは平衡あるいは定常状態であっても、それはミクロスコーピックには状態間遷移に対して詳細釣合い条件が成立していると換言でき、原子レベルでは系状態が絶えず時間変動し、”揺らいで”いる。さらに、本研究で扱うような金属ガラスなどの固体材料中では、複雑系ゆえの多体効果に基づく非線形的平衡揺らぎが出現する。本稿では、高分解能型超高圧電子顕微鏡を利用したその場照射実験結果を中心に、機能性材料の代表として形状記憶・超弾性効果で有名な合金材料であるNiTi金属間化合物に関して、非晶質化過程の原子構造揺らぎについて紹介する。
Type: article
URI: http://hdl.handle.net/2115/77011
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Submitter: 渡辺 精一

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