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TypeAuthor(s)TitleOther TitlesCitationCitation(alt)Issue Date
articleShimozuma, M.; Date, H.; Iwasaki, T.; Tagashira, H.; Yoshino, M.; Yoshida, K.Three-dimensional deposition of TiN film using low frequency (50 Hz) plasma chemical vapor deposition-Journal of Vacuum Science & Technology. A, Vacuum, Surfaces, and Films-Jul-1997
bulletin (article)下妻, 光夫; Lasorsa, Carlos; Rodrigo, AdolfoDCプラズマCVD法による3次元基板上へのTiN膜生成 : アルゼンチン共和国へのプラズマプロセシング技術協力Deposition of TiN Film on the Three-Dimensional Substrate Using DC Plasma CVD Method : Technical Cooperation for Plasma Processing of Industrial Materials in the Argentine Republic北海道大学医療技術短期大学部紀要-Dec-1995
bulletin (article)伊達, 広行; 鈴木, 元幸; Ventzek, Peter L. G.; 下妻, 光夫; 酒井, 洋輔; 田頭, 博昭レーザーアブレーションプラズマ中の電子の挙動に関する研究Electron Dynamics in Laser Ablation Plasmas北海道大学医療技術短期大学部紀要-Dec-1995
bulletin (article)下妻, 光夫; 三星, 十久乳幼児や障害児の視機能検査装置開発Development of Visual Acuity Measurement System for Infants and Impaired Children北海道大学医療技術短期大学部紀要-Dec-1994
bulletin (article)下妻, 光夫; 石川, 基博; 田頭, 博昭50HzプラズマCVD法による高分子材料上へのシリコン酸化膜生成Deposition of Silicon Oxide Film on Polymer Substrade Using 50Hz Plasma CVD Method北海道大学医療技術短期大学部紀要-Dec-1992
bulletin (article)下妻, 光夫; 田頭, 博昭N2OのArプラズマによる解離Dissociation of N2O by Ar plasma北海道大学医療技術短期大学部紀要-Dec-1991
articleShimozuma, Mitsuo; Tochitani, Gen; Tagashira, HiroakiOptical emission diagnostics of H2+CH4 50-Hz–13.56-MHz plasmas for chemical vapor deposition-Journal of Applied Physics-15-Jul-1991
bulletin (article)下妻, 光夫; 田頭, 博昭H2+CH4 混合ガスプラズマ発光の位置・時間分解Diagnotics of Plasma in H2+CH4 Mixture by Space and Time Resolved Optical Emission Spectroscopy北海道大学医療技術短期大学部紀要-Oct-1990
bulletin (article)花田, 博之; 加藤, 浩; 関之山, 勝博; 下妻, 光夫; 山口, 成厚X線フィルム濃度分布の低濃度領域における統計的モデルStatistical Model of X-ray Film Density Distribution after Irradiation of Weak X-rays北海道大学医療技術短期大学部紀要-Oct-1990
bulletin (article)下妻, 光夫; 田頭, 博昭水素プラズマの電子温度周波数特性Frequency Characteristic of Electron Temperature in Hydrogen Plasma北海道大学医療技術短期大学部紀要-Nov-1989
articleShimozuma, M.; Tochitani, G.; Ohno, H.; Tagashira, H.; Nakahara, J.Hydrogenated amorphous carbon films deposited by low-frequency plasma chemical vapor deposition at room temperature-Journal of Applied Physics-1-Jul-1989
bulletin (article)下妻, 光夫; 田頭, 博昭室温・低周波 (50Hz) プラズマCVD法によるアモルファスカーボン膜の作成と評価Characteristics of Amorphous Carbon Thin Film by Room Temperature Low Frequancy (50Hz) Plasma CVD北海道大学医療技術短期大学部紀要-Oct-1988
bulletin (article)関之山, 勝博; 下妻, 光夫; 山口, 成厚; 酒井, 洋輔ガス入り計数管のガス材料改善 (1) : 放電基礎パラメータの測定Improvement of Counter Gas (1) : Measurement of Basic Discharage Parameters北海道大学医療技術短期大学部紀要-Oct-1988
bulletin (article)横山, 勇治; 大野, 英男; 長谷川, 英機; 下妻, 光夫「非晶質シリコン薄膜トランジスタのドレイン電流ドリフト特性とその機構」Characterization and Mechanism of Drain Current Drift in Hydrogenated Amorphous Silicon Thin Film Transistor北海道大學工學部研究報告Bulletin of the Faculty of Engineering, Hokkaido University30-May-1988
bulletin (article)下妻, 光夫; 長谷川, 英機; 田頭, 博昭アルゴン-シランと窒素-シラン混合ガスのグロー放電発光スペクトルEmission Spectrum of the Glow Discharge in Argon-Silane and Nitrogen-Silane Mixtures北海道大學工學部研究報告Bulletin of the Faculty of Engineering, Hokkaido University31-Oct-1983
bulletin (article)下妻, 光夫; 田頭, 博昭; 長谷川, 英機N2とCH4の混合ガス中における電離電流の増倍と電離係数Ionization Current Growth and the Ionization Coefficients in N2 and CH4 Mixtures北海道大學工學部研究報告Bulletin of the Faculty of Engineering, Hokkaido University30-May-1981
bulletin (article)平山, 均; 下妻, 光夫; 小林, 倫; 田頭, 博昭低気圧ガス中の電離電流におよぼす磁界の影響 : CH4ガスへの適用Influence of Magnetic Field on the Ionization Current at Low Pressures : Applcation to CH4 Gas北海道大學工學部研究報告Bulletin of the Faculty of Engineering, Hokkaido University30-Nov-1979
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